Spin Coater – Best Tools

Os Spin Coaters SC110-B são projetados para revestir uma variedade de substratos desde pequenos pedaços até wafers redondos de 8”.

Especificação:

Tamanho de substratos: Até wafers de 8” de diâmetro;

Velocidade máxima: 10.000 rpm;

Vácuo: Venturi (Amostras pesadas devem ser rotacionadas com velocidade menor – risco de serem arremessadas).

Microscópio eletrônico de varredura de alta resolução marca Jeol, modelo JSM 7800F, com canhão de emissão por campo do tipo Schottky – com emissor de ZrO / W. Detector de elétrons secundários LED / UED, nos modos de observação LDF / SEM / GB. Porta amostras adaptado para medidas em modo STEM. Aceleração de voltagem de 0,5 a 30 kV. Magnificação de 10 a 1.000.000x. Equipado com analisador de espectroscopia de energia dispersiva da marca Oxford, modelo X-Max 80, e beam blanker da marca Deben para nano fabricação por feixe de elétrons.

Especificação: Microscópio eletrônico de varredura de alta resolução, equipado com detector de elétrons secundários e de energia dispersiva de raios X, operando de 0,5 a 30 kV, com magnificação de 10 a 1.000.000x. Com resolução de borda final de 0,8 nm.

PLASMA ZEPTO VERSION 2

Dimensão da Câmara: 105 mm de diâmetro por 300mm de profundidade.

Material da Câmara: Quartzo

Volume da Câmara: aproximadamente 2,6 litros.

Fornecimento de gás: 2 canais para gases com ajuste individual (fluxímetro)

Gerador: 40KHz/100W.

Operação em atmosfera de oxigênio e/ou argônio.

Marca/Modelo: Oxford Instruments / Plasma Pro NGP80

Descrição: O sistema de corrosão por íons reativos com potência de até 300W pode processar amostras com diâmetro máximo de 4” com controle de temperatura entre 0 e 80°C. Os gases disponíveis para trabalho são: CF4, SF6, CHF3, Ar, e O2. O sistema é dedicado a corrosão de silício, podendo sob consulta, processar outras classes de materiais.

Especificações:

Tamanho máximo de substrato: 4”

Potência máxima: 300W

Gases disponíveis: CF4, SF6, CHF3, Ar, e O2

Temperatura de processo: 0 a 80°C

Marca/Modelo: Quantum Design / Micro Writer ML3

Descrição: Sistema de fotolitografia do tipo prototipagem rápida com laser de 365nm (i-line) e resolução mínima de 1µm, sob condições específicas. O sistema comporta amostras de até 6” de diâmetro. O formato de arquivo para trabalho é .CIF sendo aceito outros formatos sob consulta.

Especificações:

Tamanho máximo de substrato: 6”

Comprimento de onda: 365nm (i-line)

Resolução máxima: 1um

O PlasmaPro 80 reactive ion etch (RIE) é um sistema compacto. O seu design permite carregamento e descarregamento rápido de wafer, ideal para pesquisa, prototipagem e produção de baixo volume. Ele permite processos de alto desempenho usando resfriamento de eletrodo otimizado e excelente controle de temperatura do substrato.

Especificação:

Tamanho de substratos: É possível corroer amostras de 8 mm x 8 mm até wafers de 100 mm de diâmetro;

Gases disponíveis: CF₄, SF₆, CHF₃, O₂, Ar;

Sistema dedicado à corrosão de Silício.

Deposição induzida por feixe de elétrons (E-beam evaporation)

Especificação:

Fonte: 5kV;

Corrente: máx. 600 mA;

Tamanho de amostra: ≤ 100 mm;

Câmara de deposição com capacidade de até 4 alvos;

Pressão de trabalho na ordem de 1 x 10^-7 Torr;

Cadinhos de Carbono vítreo de tamanho igual 2cc
Materiais disponíveis: Au, Cr e Al₂O₃

Microscópio ótico da marca Nikon, modelo Eclipse LV100ND, equipado com cinco lentes objetivas, do tipo free oil, de 5, 10, 20, 50 e 100x de ampliação, em sistema bright field ou dark field. Óticas para análises por reflexão e transmissão da luz. Filtros de colorização e bloqueio. Sistema de luz polarizada. Câmera da marca Nikon, modelo DS-Fi2, e software de captura e tratamento NIS-Elements v.4.50.

Especificação: Microscópio ótico de magnificação final de até 1000x, em sistema de luz refletida ou transmitida. Temos a disposição 4 unidades deste equipamento, nas mesmas especificações.

Marca/Modelo: Anric Technologies / AT-410

Descrição: Sistema de deposição térmica por camadas atômicas com controle de temperatura de processos de até 300°C. É possível realizar o crescimento dos seguintes materiais: Al2O3, SiO2 e TiO2. O sistema também possui um gerador de ozônio para ser utilizado em conjunto com os precursores. Os precursores organometálicos para os materiais disponíveis são respectivamente: TMA (Al), TDMAS (Si) e TDMAT (Ti). O tamanho máximo de amostras é de 4” de diâmetro.

Especificações:

Tamanho máximo de substrato: 4”

Elementos para deposição: TiO2, Al2O3, SiO2

Temperatura de processo: até 300°C

Gerador de Ozônio para processos com SiO2

Marca/Modelo: Best tools / SC110-B

Descrição: Sistema de espalhamento de soluções com controle de rotação de até 10.000 rpm. É possível realizar receitas com várias etapas, incluindo rampa, tempo e velocidade em cada etapa. O sistema comporta amostras de até 6” de diâmetro e no mínimo de 9mm x 9mm, limitado pelo fixador do mandril giratório (Chuck).

Especificações:

Tamanho máximo de substrato: 6”

Velocidade máxima: 9000 rpm

O sistema AT410 ALD fornece uma solução para filmes finos condutivos e conformados para preparação de amostras 3D, ao mesmo tempo em que fornece revestimentos 2D tradicionais que atualmente são cultivados usando sputtering/evaporação.

Possui gerador de ozônio.

Especificação:

Porta amostras com até 4” de diâmetro.

Processos com até 5 percursores (Óxidos, Elementais, Nitretos e Sulfetos)

Deposição de: óxido de alumínio, dióxido de silício e dióxido de titânio.

Alta qualidade para projetos de crescimento em pequenas amostras.

Sistema de dosagem preciso.

Microscópio de força atômica marca Bruker, modelo Dimension Icon, com tecnologia ScanAsyst de otimização de medidas. Opera em modos de contato, contato intermitente e não contato, viabilizando análises elétricas, magnéticas e de força, em geral, para diferentes materiais. É uma poderosa ferramenta na caracterização de rugosidade de superfície, diferenciação de fases, tamanho lateral e profundidade como, degrau e espessura de folhas e filmes.

Especificação: Microscópio de força atômica, com tecnologia ScanAsyst, para capturas mais rápidas e otimizadas.

Micro Writer ML3 (prototipagem Direta)

Uma máquina de fotolitografia de gravação direta para prototipagem rápida

Especificação:

Fonte: Laser de alta potência com espectro de 405 nm;

Tamanho de substratos: até wafers de 100 mm de diâmetro;

Resolução 1 µm

Marca/Modelo: MBRAUN / sem modelo (customizado)

Descrição: Sistema de deposição física por feixe de elétrons com fonte de 3kW de potência. O sistema possui 4 alvos de 2cc, do tipo rotativo, permitindo a deposição sequencial de 4 elementos distintos. A pressão de trabalho base é de 2x10-7 mbar e comporta amostras de até 4” de diâmetro. Amostras maiores podem ser depositadas sob consulta. É possível realizar deposições com controle manual e automático, tanto de espessura quanto de taxa de deposição. A espessura é controlada por meio de um obturador e a taxa de deposição por meio de um cristal de quartzo com 6MHz de frequência de operação.

Especificações:

Tamanho máximo de substrato: 6”

Possibilidade de deposição sequencial de até 4 alvos distintos

Pressão base: 3x10-7 mBar

Gases disponíveis: Sob Consulta

Porta amostras giratório

Marca/Modelo: Diener Electronic / Plasma zepto version 2

Descrição: Sistema de plasma de bancada para limpeza e passivação de superfícies. Com potência máxima de 100W e pressão de trabalho máxima de 1.5mbar, é possível carregar amostras com dimensões máximas de 3” de diâmetro. Os gases disponíveis para trabalho são: Argônio (Ar) e oxigênio (O2).

Especificações:

Tamanho máximo de substrato: 3”

Potência máxima: 100W

Gases disponíveis: Ar, e O2

Microscópio ótico da marca Nikon, modelo Eclipse LV100ND, equipado com cinco lentes objetivas, do tipo free oil, de 5, 10, 20, 50 e 100x de ampliação, em sistema bright field ou dark field. Óticas para análises por reflexão e transmissão da luz. Filtros de colorização e bloqueio. Sistema de luz polarizada. Câmera da marca Nikon, modelo DS-Fi2, e software de captura e tratamento NIS-Elements v.4.50.

Especificação: Microscópio ótico de magnificação final de até 1000x, em sistema de luz refletida ou transmitida. Temos a disposição 4 unidades deste equipamento, nas mesmas especificações.

Microscópio eletrônico de varredura de bancada da marca Hitachi, modelo TM3000, equipado com semicondutor de alta sensibilidade para a detecção por elétrons retroespalhados nos modos de operação COMPO, Shadow 1, Shadow 2 e TOPO, a baixo vácuo.  Porta amostras dedicados para leituras de superfície e transversal. Aceleração de voltagem de 5 e 15kV. Magnificação de 15 a 30.000x. Possui sistema motorizado de movimentação do stage.

Especificação: Microscópio eletrônico de varredura de baixo vácuo, operando em 5 ou 15 kV, com magnificação de 15 a 30.000x, em baixo vácuo, possibilitando análises de materiais mais isolantes.

O Microscópio Raman Confocal permite realizar análises nos comprimentos de onda 633, 532 e 488 nm. Com um espectrometro UHTS com fibra optica  acoplada, possui alta resolução lateral (<0.5 um)  e trata-se de uma técnica não destrutiva. Além de efetuar análises pontuais planares (X-Y) e de profundidade (Z), aquisição por tempo e mapeamento, seu sistema confocal permite gerar imagens 3D ultra rápidas, com até 0.1 milésimos de secundo por spectro.

Especificações:

Laser: 488, 532 e 633 nm

Lentes Objetivas:10x, 50x e 100 x

Resolução lateral : <0.5 um

Espectrofotómetro UV-VIS-NIR (185 a 3300 nm) possui uma ótica de duplo feixe e sistema de detecção de sinal de três detectores independentes. Permite efetuar medidas no modo Espectro, Fotométrico e Cinético, além de análises de materiais em solução, filme ou pó. Possui ainda módulo de Esfera de Integração que permite medida de reflectância

Especificações:

Intervalo do Comprimento de Onda:185 a 3300 nm

Módulo Esfera de Integração (220 nm a 2600 nm)

Resolução 0.1 nm

Marca/Modelo: SPI Supplies / Plasma Prep III

Descrição: Sistema de plasma de bancada para limpeza e passivação de superfícies. Com potência máxima de 100W e pressão de trabalho máxima de 250mTorr, é possível carregar amostras com dimensões máximas de 3” de diâmetro. Os gases disponíveis para trabalho são: Argônio (Ar), oxigênio (O2) e nitrogênio (N2).

Especificações: Potência 100W, pressão máxima 250mTorr, tamanho máximo de substrato 3”. Ases disponíveis: Ar, O2 e N2

Microscópio invertido marca Olympus, modelo IX83, totalmente motorizado, integrado ao sistema VT-iSIM de super resolução de imagens e alta velocidade. Opera com um conjunto de três objetivas (UPLXAPO20X, UPLSAPO60XS e UPLAPO100XOHR). Iluminação Epi fluorescente de LED CoolLED’s pE-300white. Sistema de captura de imagens Hamamatsu ORCA-Fusion sCMOS, com resolução máxima de 2304 x 2304 (5.3 Megapixels) em uma velocidade máxima de 100 frames/segundo e tamanho de pixel de 6,5 µm X 6,5 µm. No campo de laser de estado sólido é equipado com quatro diferentes comprimentos de onda (L405P100, L488P150, L561P100 e L640P100).

Especificação: Microscópio invertido confocal de varredura a laser e fluorescência. Equipado com 4 lasers diferentes (405, 488, 561 e 640 nm). Com sistema automatizado de fatias, em Z, em escala nanométrica.

Microscópio ótico da marca Olympus, modelo BX51M, equipado com cinco lentes objetivas, do tipo free oil, de 5, 10, 20, 50 e 100x de ampliação, em sistema bright field ou dark field (para as lentes 10 e 20x). Entrega final de resolução em 1x ou 2x, chegando até 2000x de magnificação. Ótica para análises por reflexão da luz. Filtro de colorização amarelo. Sistema de luz polarizada. Câmera da marca Olympus, modelo SC30, e software de captura e tratamento Olympus Stream Essentials 2.1.

Especificação: Microscópio ótico de magnificação final de até 2000x, em sistema de luz refletida.

Utilizado para caracterizar nano e micropartículas em dispersão, peptídeos e macromoléculas. Inclui três ângulos de medição para determinação do tamanho de partículas (15°,90°,175°). Permite medições de potencial zeta em baixas tensões. Laser: 658 nm (vermelho). 

Especificações:

Faixa de análise:0.3 nm-10 um (DLS) e 3.8 nm a 100 um (ELS)

Índice de refração:1.28 - 1.50

Ângulo de detecção:15, 90 e 175 °

Dispersão de luz eletroforética (ELS):>+-1000 mV

Espalhamento de luz estática (SLS):980 Da - 20 MDa

Dispersão de luz dinâmica (DLS):0.3 nm - 10um

Marca/Modelo: MBRAUN / Unilab

Descrição: Estação de trabalho sob atmosfera de Argônio (Ar), com controle de níveis de oxigênio (O2) e umidade (H2O) ≤ 5 ppm. Pode ser utilizada para armazenamento e manipulação de reagentes químicos críticos, execução de experimentos e processos de fabricação que necessitem de uma atmosfera inerte. O sistema possui controle automático de pressão, iluminação e tomadas elétricas internas para auxiliar em quaisquer experimentos.

Especificações: Atmosfera de argônio (Ar)

O difratômetro de Raio-X permite analisar amostras do tipo pó, membranas, fibras e filmes finos, através da configuração Bragg-Bretano, GID e XRR. Possui mesa X-Y-Z e câmera acoplada para medidas de microdifração. O detector LYNXEYE XE-T permite a aquisição em 0D, 1D e 2D

Especificações:

Acurácia em posição de pico <0.01°

Fonte Raio-X Cobre

Detector LYNXEYE XE-T

Modos: Bragg-Bretano, GID e XRR

O XPS é uma ferramenta utilizada para análise de superfície de materiais, caracterização elementar e ambiente químico, com espessura de análise de 5-10nm. Possui um monocromador de raios-X Al Kα, que permite ajustar a área de análise de 50 a 400 um. Possui modo UPS, módulo de medidas de função trabalho e porta amostra para medida em ângulo. 

Especificações:

Neutralização de carga por eletron/ion flood de Argônio

Argônio-EX06 ion source

Modos de operação: Scan, Snapshot e SnapMap

Espectroscopia fotoeletrônica UV (UPS)

Monocromador de raio-X micro-focused:50 a 400 um

Faixa de energia cinética: 5-1500eV

Equipamento FTIR com módulo de Reflectância Total Atenuada (ATR). Permite análises com resolução de 0.5 cm-1, com faixa de operação de 400 a 7800 cm-1 (FTIR) e 600 a 4000 cm-1 (ATR). Permite análises de materiais líquidos e sólidos (filmes e pó). 

Especificações:

Resolução Máxima :0.5 cm-1

Intervalo de número de onda :400 a 7800 cm-1( FTIR) e 600 a 4000 cm-1 (ATR)

Módulo Reflectância Total Atenuada (ATR)-Cristal de ZnSe (pH 5-9)

S/N ratio: 30000 : 1

Marca/Modelo: MBRAUN / Unilab

Descrição: Estação de trabalho sob atmosfera de Argônio (Ar), com controle de níveis de oxigênio (O2) e umidade (H2O) ≤ 5 ppm. Pode ser utilizada para armazenamento e manipulação de reagentes químicos críticos, execução de experimentos e processos de fabricação que necessitem de uma atmosfera inerte. O sistema possui controle automático de pressão, iluminação e tomadas elétricas internas para auxiliar em quaisquer experimentos.

Especificações: Atmosfera de argônio (Ar)

Espectrômetro de massas de alta resolução e alta sensibilidade do tipo MALDI, com as fontes de ionização por ESI (Eletrospray Ionization) ou APCI (Atmospheric-pressure chemical ionization) com analisador Ion trap, o que permite obter fragmentações MSn. Aplicações: Identificação e caracterização de proteínas e peptídeos; Análise de compostos orgânicos;

Estufa utilizada para a incubação de meios de cultura inoculados e monitoramento de crescimento microbiano.

Osciloscópio Digital 59GHZ Keysight DSOZ592A, com baixo nível de ruído, 59 GHz de largura de banda em tempo real. Taxa de amostragem de 160 GSa/s e de 80 GSa/s em 1 canal e 2 canais respectivamente.

Ele combina microscopia FT-IR e de imagem a laser infravermelho oferecendo todos os modos de medição transmissão, reflexão e ATR.

Especificações:

-Modulo  ATR

-Medida pontual e mapa química